Apparatus – On fake shields surroundings and too many questions
“On fake, shields, surroundings and too many questions” è una lecture che introduce la pratica artistica del collettivo Apparatus da diversi punti di vista
Comunicato stampa
In occasione della prima personale in Italia del collettivo romeno Apparatus 22, gli artisti dialogano con Eleonora Farina, curatrice della mostra “SEVERAL LAWS. THE ELASTIC TEST” in galleria.
“On fake, shields, surroundings and too many questions” è una lecture che introduce la pratica artistica del collettivo da diversi punti di vista: i temi d’interesse per la ricerca e la produzione, i processi di articolazione delle idee, i diversi contesti in cui gli artisti hanno vissuto e lavorato, la messa in discussione come strategia per il pensiero critico, ecc.